Samsung introduce un alto na euv para impulsar la competitividad en el mercado de 2 nm

Según los informes, Samsung Electronics ha introducido el equipo de litografía de semiconductores de próxima generación, la máquina de litografía de alta apertura numérica (NA) ultravioleta extrema (EUV) (alto NA EUV) —exe: 5000— en su instalación de Hwaseong en Corea del Sur a principios de marzo.High NA EUV es esencial para fabricar circuitos ultra finos por debajo de 2 nm, lo que indica el esfuerzo de Samsung para mejorar su tecnología de proceso sub-2NM.

El informe destaca que este equipo avanzado viene con un alto precio de 500 mil millones de KRW (aproximadamente 2.501 mil millones de RMB) y es suministrado exclusivamente por ASML, lo que lo convierte en una de las herramientas más buscadas en la industria de los semiconductores.

Desde el año pasado, Samsung ha estado evaluando la aplicación de alto NA EUV en su proceso de fabricación y, según los informes, planea usarlo para sus nodos semiconductores de próxima generación por debajo de 2 nm.

High NA EUV se considera un habilitador crítico para los procesos de fundición avanzados de sub-2NM.Las principales compañías de semiconductores en todo el mundo están corriendo para adoptar esta tecnología de vanguardia.Intel ya ha firmado un contrato para comprar seis de estas máquinas, con la primera entregada en 2023. Mientras tanto, TSMC ha introducido recientemente el equipo en su línea de producción para acelerar la adopción de su tecnología de proceso de 2 NM.

Según Trendforce, la cuota de mercado Global Foundry de TSMC en el cuarto trimestre de 2023 alcanzó el 67.1%, un aumento de 2.4 puntos porcentuales del tercer trimestre de 2023. En contraste, Samsung ha luchado en el mercado, con su participación cayendo 1 punto porcentual de 9.1% a 8.1% durante el mismo período.